國產DUV光刻機來了 可產8納米及以下晶片
國家工信部近日宣布,研發出首台國產深紫外光光刻機(DUV),可生產8納米及以下晶片,目前正在推廣應用。
工業和信息化部官網9日公布「首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)」的通知,下發地方要求加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。
這份目錄顯示,在積體電路生產裝備,其中一項是「氟化氬光刻機」(DUV光刻機),核心技術指標是「晶圓直徑300mm,照明波長248nm,分辨率≦65nm,套刻≦8nm」。這也代表,這台國產DUV可生產8納米及以下晶片。至於國產DUV光刻機的良率則未見提及。
中國若實現國產8納米及以下製程DUV光刻機,未來絕大多數晶片製造,將不用受制於ASML光刻機。不過,截至目前,尚無中國官方與廠商宣布這項消息。