日企半導體技術突破 或讓中國解開鐐銬

翊君/時事評論員

為阻止中國芯片主導體的研發，美國運用政治影響力限制其他國家向中國進入製作芯片的機器及技術。但最近日本企業研發出了一個新技術，令中國高端主導體發展可能有新的發展，更有可能打破現今受美國「科技制裁」的困局。

近日，日本企業佳能開始銷售納米壓印（Nanoimprint lithography）半導體製造系統設備，這款新型芯片製造機可以使用極紫外微影（EUV）生產相當於5納米規模的電路，經多重測試後該芯片製造機確認已達到商業成熟度，預計將可搶佔荷蘭半導體製造系統設備公司ASML在半導體製造工具的市場佔有率。

消息一出，不但令ASML的股價所挫，而且內地半導體企業的股票也因而大漲。日本企業的成功研發，何以令內地半導體發展出現景氣呢？首先，雖然日本配合美國自去年10月實施禁令，禁止芯片主導體製作技術和相關設備進口中國，但這款新型芯片製造機與傳統EUV的光刻機的製式有所不同，有分析指可能成為突破禁止出口中國的一個缺口。另一方面，佳能這種新的納米壓印技術，繞過傳統的曝光技術，直接將電路圖案壓印到芯片圓上，不單是技術上的突破，更是思路邏輯上的一大突破，算是為未來中國半導體企業另闢新徑。更重要的是，相對於傳統的光刻技術，納米壓印製程簡單，無需複雜的光刻設備和化學材料，未來中國大有機會掌握到這種科技工藝，至少現時內地主導體業界有著這樣的憧憬。

事實上，無論是ASML，抑或日企的Canon和Nikon，面對芯片需求極大的中國市場一定也想盡辦法搶佔市佔率。正如ASML高層所言，若不盡快搶佔，中國會在不久成功突破科技困點，到時便再沒有機會進入中國市場。也許美國想也沒想到，盡全力在EUV光刻機領域的技術對中國進行封鎖，竟然因為日本的技術突破令布局驚現缺口敗象。真是人算不如天算了！哈哈！

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